Congrès de Paris, 2010

Congrès de Paris, 2010

Q 216 Les exceptions à la protection du droit d'auteur et les usages autorisés des œuvres protégées dans les secteurs des hautes technologies et du numérique. Exceptions to copyright protection and the permitted uses of copyright work.

Orientations de travail [english]

Modèle de réponse [english]

Rapport du groupe français [cliquer ici]

Rapport de synthèse international [cliquer ici]

Q 215 La protection des secrets de fabrique par les lois de la propriété intellectuelle et le droit de la concurrence déloyale. Protection of Trade Secrets through IPR and Unfair Competition Law.

Orientations de travail [english]

Modèle de réponse [english]

Rapport du groupe français [cliquer ici]

Rapport de synthèse international [cliquer ici]

Q 214 La protection contre la dilution de la marque. Protection against a dilution of a mark.

Orientations de travail [english]

Modèle de réponse [english]

Rapport du groupe français [cliquer ici]

Q 213 L'homme du métier dans le contexte de l'exigence d'activité inventive prévue par le droit des brevets. The person skilled in the art in the context of the inventive step requirement in patent law

Orientations de travail [english]

Modèle de réponse [english]

Rapport du groupe français [cliquer ici]

Projet de résolution internationale [cliquer ici]

Q 213 bis (réexamen de Q 204) La responsabilité pour contrefaçon par fourniture de moyen.

Orientations de travail [english]

Modèle de réponse [english]

Rapport du groupe français [cliquer ici]

Rapport international de synthèse [cliquer ici]

Projet de résolution internationale [cliquer ici]

 

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